ICS 25.080.50 CCS J 59 中华人民共和国机械行业标准 JB/T 14523-× × × X 电解质等离子体抛光机 Electrolytic plasma polishing machines (报批稿) ×××-××-× 发布 ××××-××-×× 实施 中华人民共和国工业和信息化部 发布 JB/T 14523-× × ×× 电解质等离子体抛光机 1范围 本文件规定了电解质等离子体抛光机的规格型号、结构、使用条件和要求，描述了相应的试验 方法，规定了检验以及标志、铭牌与使用说明书和包装、运输与贮存等。 本文件适用于对导电金属零件进行清洗、去毛刺及抛光加工的电解质等离子体抛光机的制造。 2规范性引用文件 下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用 文件，仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单） 适用于本文件。 GB/T191包装储运图示标志 GB2894安全标志及其使用导则 GB/T3280不锈钢冷轧钢板和钢带 GB/T4208一2017外壳防护等级（IP代码） GB/T5226.1一2019机械电气安全机械电气设备第1部分：通用技术条件 GB/T9969工业产品使用说明书总则 GB/T10125一2012人造气氛腐蚀试验盐雾试验 GB/T13306标牌 数字存储示波器通用规范 GB/T15289 JB/T8356 机床包装技术条件 3术语和定义 下列术语和定义适用于本文件。 3. 1 电解质等离子体抛光electrolytic plasma polishing 使用无机盐配制抛光液，以待抛光件（工件）为阳极，以抛光槽导电部分为阴极，在抛光件与 抛光槽导电部分之间加载直流电压产生放电等离子体进行抛光的特种加工技术， 3. 2 电解质等离子体抛光机electrolytic plasmapolishingmachine 采用电解质等离子体抛光技术对导电金属材料工件进行抛光的设备。 1 JB/T 14523-× × × × 3. 3 抛光槽 曹polishing bath 用来盛放抛光液从而对工件进行抛光的容器。 3. 4 抛光液 友polishing solution 由无机盐配置的电解质水溶液。 3.5 原 electric source for polishing 工艺电源 用于产生等离子体的可调电压直流电源。 4规格型号 电解质等离子体抛光机（以下简称“抛光机”）的规格型号宜按照以下方式进行标注，至少应 包括工艺电源功率、抛光槽尺寸（长×宽×高）等主参数： EPP —×× 抛光槽尺寸：长（L/mm）×宽（B/mm）×高（H/mm） 工艺电源功率/kw 产品代号：等离子体抛光机 示例： EPP150—1000×500×800表示抛光机的工艺电源功率为150kW，抛光槽内部尺寸为1000mm×500mm×800mm。 5结构 抛光机的结构示意见图1，主要由抛光机和抛光电源两大部分组成。为清楚地展示抛光机内部 结构，图1还以切截面的方式展示了升降臂（6）、阳极馈电座（7）、抛光槽（8）、加热装置（9）、泵（10）、 抛光液进口（11）、抛光液出口（12）及废液口（13)等主要部件。抛光机的主要部件及名称见表1。 2